Obteve o BACHARELADO EM FÍSICA pela UFG (1994), MESTRADO (1997) e DOUTORADO EM FÍSICA (2001) pelo IF/USP, com estágio sanduíche no LURE-França. Realizou estágio pós-doutoral também no LURE (2002-2003). Atualmente é professor adjunto no IF/UFMT. Tem experiência na área de Física, com ênfase em radiação síncrotron, espectroscopia, caracterização de materiais e em deposição e caracterização de filmes finos, atuando principalmente com relação às seguintes técnicas e/ou temas: EXAFS, XANES, FTIR, SAXS, carbeto de silício amorfo hidrogenado (a-SiC:H), filmes finos e deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD). Nos últimos anos, tem expandido sua atuação também aos campos de síntese e caracterização de materiais nanoestruturados e de interesse geológico (geociências), utilizando para isso também as técnicas de EDX e XRD. Atualmente, está instalando no IF/UFMT um sistema de deposição por PED (Pulsed Electron Deposition), para desenvolver localmente pesquisas na área de filmes finos.